연구장비 상세조회

마스크 얼라이너
마스크 얼라이너

Mask Aligner

시설장비등록번호
NFEC-2007-10-003192
장비구분
분석
취득일자

제작사명 Suss Microtec 모델명 MA6
보유기관 연세대학교 취득금액 258,000,000 원
표준분류
세부과제명
시설장비 설명 ㅇAlignment system - Power : 230V/50/60Hz, - X, Y,Z, Theta alignment - Alignment gap : 0~300micron - Resolution : 1 micron - i-line/g-line ㅇConfiguration : - Alignment system, - Exposure system, - MASK holder & chuck, - Accessries ㅇApplications : - Wafer size : 4, 6, piece
구성 및 성능 -.Si-based semiconductor device fabrication(MOSFET, CMOS, PMOS, NMOS, MOS capacitor, Diode, MIM capacitor, Resistor, etc) -.Microelecromechanical systems (MEMS), Nanoelectromechanical systems (NEMS), etc. -.Thin film transistor (TFT), Photonics (Light emitting diode-LED, AMOLED, etc), Organic electronic devices등 미세 패턴을 포함하는 디바이스 제작에 활용가능
사용 예
문의번호 02-2123-7812

* 위 시설장비문의번호의 담당자는 아래 연구책임자와 다를 수 있습니다.