이온밀링 장비

이온밀링

Ion Milling


제작사명	Hitachi	모델명	IM4000
보유기관	부산대학교	취득금액	193,185,000 원
표준분류
세부과제명
시설장비 설명	이온밀링은 전자현미경 분석을 위한 전처리장비임. 재료표면을 Milling 하여 EBSD 분석용 시료를 제작하거나 단면관찰을 위한 Cross section 시료를 제작하는 장비임.
구성 및 성능	* 주요구성 1. Ion gun unit 2. Stage for cross-section milling 3. Stage for flat milling 4. Pumping * 성능 1. System : Penning system 2. Accelerating voltage : 0 to 6kV 3. Discharge voltage : 0 to 1.5kV 4. Discharge current : 0 to 560㎂ 5. Ion beam diameter : about 500㎛ 6. Ar gas flow control : High accuracy Mass flow control 7. Milling rate : - Cross-section milling : over than 300㎛/hr on Si - Flat milling : 22㎛/hr(Illumination angle : 60˚) - Spot 2㎛/hr(Illumination angle : 0˚) - Flat
사용 예
문의번호	051-510-3038 * 위 시설장비문의번호의 담당자는 아래 연구책임자와 다를 수 있습니다.

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