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연구장비 상세조회

투과전자현미경(TEM)
투과전자현미경(TEM)

300kV Field Emission Transmission Electron Microscope

시설장비등록번호
NFEC-2014-12-194455
장비구분
시험
취득일자
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제작사명 FEI 모델명 Tecnai
보유기관 경상국립대학교 취득금액 1,276,041,400 원
표준분류
세부과제명
시설장비 설명 FEG Type으로 수렴도가 우수한 전자빔을 얻을 수 있어 다양한 시료에 투과시킨 후 자계렌즈를 이용하여 수 백만 배 이상으로 확대하여 계면(Interface) 전위(Dislocation), 적층 결함(Stackingfaults), 석출물, 쌍정, 두께, 결정립미세형상, 등의 각종 결정 결함의 크기와 형태를 수 A 단위로 직접 눈으로 관찰할 수 있으며, 회절도형 (Diffraction Pattern)으로 재료의 아주 미소한 영역의 여러 성질에 미치는 전자회절상(x-ray의 회절상과 근본적으로 같음)을 얻을 수 있어 결정성, 격자상수 및 결정면 간격 측정, 대칭성 분석을 하여 결정 구조 분석을 할 수 있다. 또한 전자 빔을 시편에 쪼일 때 나오는 x-ray 또는 분광 분석기를 사용하여 그 에너지의 크기와 세기를 분석하여 극히 미세한 부분의 화학적 특성을 EDAX(Energy Dispersive Spectrometer)장비를 이용하여 시편의 화학적 정성. 정량분석을 확인할 수 있다.
구성 및 성능 1) TEM Point resolution 0.20nm or better 2) TEM Line Resolution 0.102 nm or better 3) TEM Information limit 0.14nm or better 4) STEM resolution 0.19nm or better , Gun type ZrO/W(100) Schottky emitter(50 ~ 300kV), Magnification 60x- 1,000,000x or better. - Bright Field Image B/F(명시야상) - Dark Field Image D/F(암시야상) - Diffraction Pattern(회절도형) -vergent beam electron diffraction CBED(수렴성 회절도형) - STEM Mode - EDS 장착 (Resolution:136 eV) 원자번호5(B) - 92(U) 까지 분석가능 - HADDF - Gatan 2k*2k camera - 자장 차폐 시스템, 2) STEM Magnification 150x-2,300,000x or better, Mode : TEM / EDS / HAADF/ BF/ DF/ STEM
사용 예 metal, ceramic, semiconductor등의 bulk, thin film, powder 물질의 미시구조, 결정구조, 화학조성분석, The electrons are accelerated at several hundred kV, giving wavelengths much smaller than that of light. However, whereas the resolution of the optical microscope is limited by the wavelength of light, that of the electron microscope is limited by aberrations inherent in electromagnetic lenses. A TEM specimen must be approximately 1000 A or less in thickness in the area of interest. The entire specimen must fit into a 3mm diameter cup and be less than about 100 microns in thickness.
문의번호 055-772-0665

* 위 시설장비문의번호의 담당자는 아래 연구책임자와 다를 수 있습니다.
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