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투과전자현미경 (200kV) (자율사용전용)
투과전자현미경 (200kV) (자율사용전용)

Field Emission TEM (200kV) (Self)

시설장비등록번호
NFEC-2013-09-182521
장비구분
시험
취득일자
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제작사명 FEI 모델명 Tecnai-F20 Super twin
보유기관 한국과학기술원 취득금액 918,361,883 원
표준분류
세부과제명
시설장비 설명 투과전자현미경(Transmission Electron Microscope)TEM(Tecnai F30)은 FEG Type으로 수렴도가 우수한 전자빔을 얻을 수 있어 고속으로 가속된 전자를 광원으로 사용하며 수 pm 정도의 매우 짧은 파장의 전자선이 투과 할 수 있도록 수 micrometer정도의 두께로 얇게 만든 재료(metal ceramic semiconductor등의 bulk thin film powder 형태의 시편)에 투과시킨 후 자계렌즈를 이용하여 수 백만 배 이상으로 확대하여 계면(Interface) 전위(Dislocation) 적층 결함(Stackingfaults) 석출물 쌍정 두께 결정립미세형상 등의 각종 결정 결함의 크기와 형태를 수 A 단위로 직접 눈으로 관찰할 수 있으며 회절도형(Diffraction Pattern)으로 재료의 아주 미소한 영역의 여러 성질에 미치는 전자회절상(x-ray의 회절상과 근본적으로 같음)을 얻을 수 있어 결정성 격자상수 및 결정면 간격 측정 대칭성 분석을 하여 결정 구조 분석을 할 수 있다. 또한 전자 빔을 시편에 쪼일 때 나오는 x-ray 또는 분광 분석기를 사용하여 그 에너지의 크기와 세기를 분석하여 극히 미세한 부분의 화학적 특성을 EDAX(Energy Dispersive Spectrometer)장비를 이용하여 시편의 화학적 성분분석(정성.정량적)을 확인할 수 있어 구성 원소의 종류와 그 농도를 측정하며 고 분해능 전자현미경 기술을 이용하면 결정이나 계면 결함의 원자 배열을 원자 하나하나의 규모로 직접 육안으로 관찰할 수 있다.
구성 및 성능 - Tecnai F20 S-TWIN - 가속전압 : 200kV - FEG type - EDS 장착 (Resolution:136 eV) 원자번호5(B) - 92(U) 까지 분석가능 - TVIPS camera - Point resolution 0.21 nm - Line resolution 0.10 nm - Information limit 0.15 nm - Focal length 1.7 nm - Minimum focus step 1.7 nm - TEM Magnification 22x - 1030Kx - STEM Magnification 22x - 1350Kx - Maximum eucentric tilt40
사용 예
문의번호 042-350-5061

* 위 시설장비문의번호의 담당자는 아래 연구책임자와 다를 수 있습니다.
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