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연구장비 상세조회
투과전자현미경 (200kV) (자율사용전용)
Field Emission TEM (200kV) (Self)
- 시설장비등록번호
- NFEC-2013-09-182521
- 장비구분
- 시험
- 취득일자
| 제작사명 | FEI | 모델명 | Tecnai-F20 Super twin |
|---|---|---|---|
| 보유기관 | 한국과학기술원 | 취득금액 | 918,361,883 원 |
| 표준분류 | |||
| 세부과제명 | |||
| 시설장비 설명 | 투과전자현미경(Transmission Electron Microscope)TEM(Tecnai F30)은 FEG Type으로 수렴도가 우수한 전자빔을 얻을 수 있어 고속으로 가속된 전자를 광원으로 사용하며 수 pm 정도의 매우 짧은 파장의 전자선이 투과 할 수 있도록 수 micrometer정도의 두께로 얇게 만든 재료(metal ceramic semiconductor등의 bulk thin film powder 형태의 시편)에 투과시킨 후 자계렌즈를 이용하여 수 백만 배 이상으로 확대하여 계면(Interface) 전위(Dislocation) 적층 결함(Stackingfaults) 석출물 쌍정 두께 결정립미세형상 등의 각종 결정 결함의 크기와 형태를 수 A 단위로 직접 눈으로 관찰할 수 있으며 회절도형(Diffraction Pattern)으로 재료의 아주 미소한 영역의 여러 성질에 미치는 전자회절상(x-ray의 회절상과 근본적으로 같음)을 얻을 수 있어 결정성 격자상수 및 결정면 간격 측정 대칭성 분석을 하여 결정 구조 분석을 할 수 있다. 또한 전자 빔을 시편에 쪼일 때 나오는 x-ray 또는 분광 분석기를 사용하여 그 에너지의 크기와 세기를 분석하여 극히 미세한 부분의 화학적 특성을 EDAX(Energy Dispersive Spectrometer)장비를 이용하여 시편의 화학적 성분분석(정성.정량적)을 확인할 수 있어 구성 원소의 종류와 그 농도를 측정하며 고 분해능 전자현미경 기술을 이용하면 결정이나 계면 결함의 원자 배열을 원자 하나하나의 규모로 직접 육안으로 관찰할 수 있다. | ||
| 구성 및 성능 | - Tecnai F20 S-TWIN - 가속전압 : 200kV - FEG type - EDS 장착 (Resolution:136 eV) 원자번호5(B) - 92(U) 까지 분석가능 - TVIPS camera - Point resolution 0.21 nm - Line resolution 0.10 nm - Information limit 0.15 nm - Focal length 1.7 nm - Minimum focus step 1.7 nm - TEM Magnification 22x - 1030Kx - STEM Magnification 22x - 1350Kx - Maximum eucentric tilt±40° | ||
| 사용 예 | - Bright Field Image B/F(명시야상) - Dark Field Image D/F(암시야상) - Diffraction Pattern(회절도형) - Convergent beam electron diffraction CBED(수렴성 회절도형) - STEM Mode - EDS 분석 (Resolution:136 eV) 원자번호5(B) - 92(U) 까지 분석가능 | ||
| 문의번호 | 042-350-5061 * 위 시설장비문의번호의 담당자는 아래 연구책임자와 다를 수 있습니다. |
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시설장비 과제의 성과(논문)
| No | 논문명 | 성과년도 | 학술지명 | SCI(E)구분 |
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시설장비 과제의 성과(특허)
| No | 특허명 | 성과년도 | 특허구분 | 출원등록번호 |
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